Tổng hợp pha hơi hóa học của Boron Nitride

Năm 1979, Sokolowski đã sử dụng thành công công nghệ plasma xung để điều chế màng boron nitride khối (CBN) ở nhiệt độ thấp và áp suất thấp. Thiết bị được sử dụng đơn giản và quy trình dễ thực hiện, vì vậy nó đã được phát triển nhanh chóng. Nhiều phương pháp lắng đọng hơi đã ra đời. Nói theo cách truyền thống, nó chủ yếu đề cập đến sự lắng đọng hơi hóa chất do nhiệt. Thiết bị thí nghiệm nói chung có cấu tạo gồm một ống thạch anh chịu nhiệt và một thiết bị gia nhiệt. Chất nền có thể được gia nhiệt bằng lò nung (CVD tường nóng) hoặc gia nhiệt cảm ứng tần số cao (CVD tường lạnh). Khí phản ứng phân hủy trên bề mặt giá thể ở nhiệt độ cao, đồng thời xảy ra phản ứng hóa học đóng cặn một lớp màng. Khí tham gia phản ứng là hỗn hợp khí BCl₃ hoặc B₂H₄và NH₃.